May 29, 2025 Xabar QOLDIRISH

Tungram maqsad tozalik vs Tantalum maqsad tozaligi

Jenan volfram maqsadli PDF hujjatini yuklab olish uchun bosing

 

Volfram maqsadli material
Yarimo'tkazgichli maydoni odatda 99,95% (3n5) dan katta yoki teng bo'lgan poklikni talab qiladi va yuqori boshli chip ishlab chiqarish 99,9995% (5N5) kerak.
Sanoat dasturlari (masalan, qoplamalar va kesish vositalarlari) 99,9% (3n) tozaligini qabul qilishi mumkin.

Tantalum maqsadli material
Asosiy qo'llanma 99,9% dan katta yoki tengdir, yarimo'tkazgichlar maydoni 99,995% ni (49.999% (5N) talab qiladi.
Kasallik vositalari kabi elektron komponentlar hatto 99.9995% (5N5) dan ko'proq narsani talab qiladi.

 

Zhenan volfram maqsadi Maqolalar tafsilotlari rasmlari tasvirlangan

 

High Purity Tungsten Sputtering Target manufacture
volfram maqsadi
High Purity w Sputtering Target company
volfram maqsadli metall

Zhenan volfram maqsadi Maqsad parametrlari jadvali

Tozalik (WT%) Zichlik (%) Don hajmi (mkm) O'lcham (maksimal) Rom
99.995 19.18 dan katta yoki teng ﹤50 18"x 0.4" 1,6 dan kam yoki teng
99.999 19.18 dan katta yoki teng ﹤50 18"x 0.4" 1,6 dan kam yoki teng

 

Agar sizda boshqa mahsulotlar ehtiyojlari bo'lsa, iltimos, biz bilan bog'laning: sales@zanewmetal.com EMAS, biz sizga imkon qadar tezroq javob beramiz

So'rov yuborish

Bosh sahifa

Telefon

Elektron pochta

So'rov